사업분야
차별화된 기술력과 창조적인 사고 더 큰 도약을 위한 도전은 계속됩니다.
펠리클사업부
반도체 펠리클
- ◆ 반도체 펠리클 소개 (IC Pellicle)
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- FST의 반도체용 펠리클은 고해상도 노광 공정에서 사용되는 포토마스크를 오염으로부터 보호하기 위해 설계된 고성능 보호막입니다.
- 각 파장대에 최적화된 제품을 중심으로, 미세 회로 구현에 요구되는 청정도와 정밀도를 충족시키는 다양한 솔루션을 제공합니다.
- EUV Pellicle - Under Development
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ArF Immersion(193nm)
Transmittance at WavelengthItem Transmittance (%) 193nm 248nm 365nm Perfluoropolymer Perfluoropolymer Thickness 0.28㎛ Transmittance ≥ 99.0% (at 193nm), ≥ 99.0% (at 248nm), ≥ 99.0% (at 365nm) Uniformity of TR ≤ 0.1% Transmittance Spectrum 
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ArF (193nm)
Transmittance at WavelengthItem Transmittance (%) 193nm 248nm 365nm Material Perfluoropolymer Thickness 0.84㎛ Transmittance ≥ 99.0% (at 193nm) Uniformity of TR ≤ 0.3% Transmittance Spectrum 
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KrF(248nm) Transmittance
at WavelengthItem Transmittance (%) 193nm 248nm 365nm Material Perfluoropolymer Thickness 0.82㎛ Transmittance ≥ 99.0% (at 248nm) ≥ 99.0% (at 365nm) Uniformity of TR ≤ 0.4% Transmittance Spectrum 
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G&I (365 & 436nm) Transmittance
at WavelengthItem Transmittance (%) 248nm 365nm 436nm Material Cellulose & Perfluoropolymer Thickness 1.44㎛ Transmittance ≥ 99.0% (at 365nm), ≥ 99.0% (at 436nm) Uniformity of TR ≤ 0.5% Transmittance Spectrum 
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